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パイロゾルプロセス
日曹透明導電膜
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パイロゾルプロセス
パイロゾルプロセスによる日曹ITO膜
パイロゾルプロセスとは
パイロゾルプロセスとは、CVD法の一種で、超音波を用いて発生させたエアロゾルを、予め加熱された基板近傍に移送し、化学蒸着させるプロセスです。
パイロゾルプロセスによる透明導電膜(ITO膜)は、表面平滑性や、耐環境性エッチング性に優れるなど、他製法による透明導電膜とは、異なる特徴を有しています。

日曹ITO膜
日本曹達は、パイロゾルプロセスを用いた透明導電膜付ガラスを製造・販売しています。
タッチパネル用の透明導電膜付ガラスとして、特に高い評価を頂いています。
パイロゾルプロセスの薬剤供給方法と成膜原理
パイロゾル法の薬剤供給方法と成膜原理
薄膜ができるまで
薄膜ができるまで
パイロゾルプロセスの特徴
生産性 インライン・大気圧下でSiO2-ITOの連続成膜が可能。
平滑性 異常突起のない適度な凹凸表面。
成膜性 基板形状に左右されずに成膜が可能。
結晶性 柱状構造、均一な結晶サイズで、微細エッチング加工に優れる。
均一性 ITO膜厚が20nm以下でも広範囲に渡り均一に成膜可能。
安定性 高温プロセスな為、後工程でITO結晶の変化がない。
   
ITO膜の表面形状 ITO膜の結晶構造
ITO膜の表面形状 ITO膜の結晶構造
AFM Ra;0.9nm RP-V;10.9nm 断面TEM
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