〉 パイロゾルプロセス
パイロゾルプロセスとは、CVD法の一種で、超音波を用いて発生させたエアロゾルを、予め加熱された基板近傍に移送し、化学蒸着させるプロセスです。
パイロゾルプロセスによる透明導電膜(ITO膜)は、
表面平滑性
や、
耐環境性
、
エッチング性
に優れるなど、他製法による透明導電膜とは、異なる特徴を有しています。
日本曹達は、パイロゾルプロセスを用いた透明導電膜付ガラスを製造・販売しています。
タッチパネル用の透明導電膜付ガラスとして、特に高い評価を頂いています。
生産性
:
インライン・大気圧下でSiO2-ITOの連続成膜が可能。
平滑性
:
異常突起のない適度な凹凸表面。
成膜性
:
基板形状に左右されずに成膜が可能。
結晶性
:
柱状構造、均一な結晶サイズで、微細エッチング加工に優れる。
均一性
:
ITO膜厚が20nm以下でも広範囲に渡り均一に成膜可能。
安定性
:
高温プロセスな為、後工程でITO結晶の変化がない。
ITO膜の表面形状
ITO膜の結晶構造
AFM Ra;0.9nm RP-V;10.9nm
断面TEM
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